Вольфрамовый лист 9х220х2000 мм В-МП в Мытищах

Промышленные стандарты предусматривают требования к температуре отжига вольфрамового листа (например, 1000-1400°С для снятия напряжений или 1500-2000°С для рекристаллизации). Также указываются время выдержки и тип атмосферы (вакуум, водород или инертный газ) для достижения требуемой микроструктуры.

Оптимальны для лазерной резки ровные, плоские листы без деформаций и поверхностных дефектов. Чистая поверхность, отсутствие загрязнений и окислов способствует стабильному процессу резки и получению высококачественных кромок.

Для длительной работы листа ВД в инертной среде, например, аргоне или водороде, оптимальны температуры до 2500°С. В этих условиях вольфрам сохраняет свои механические свойства, не подвергаясь значительному окислению или испарению.

Вольфрамовый лист используется в защите от ионизирующего излучения благодаря его высокой плотности и высокому атомному номеру. Эти свойства обеспечивают эффективное поглощение рентгеновского и гамма-излучения, применяясь в медицинском оборудовании и ядерной энергетике.

Высокая чистота и полировка поверхности листа снижают его коэффициент термического излучения в вакууме. Гладкая, без окислов поверхность эффективно отражает тепло, уменьшая теплопотери и улучшая энергоэффективность в высокотемпературных вакуумных установках.

Целостность кромки листа при высоких температурах обеспечивают методы механической обработки, такие как шлифовка, и лазерная резка с оптимизированными параметрами. Это предотвращает образование микротрещин и дефектов, которые могут стать источником разрушения при термическом воздействии.

Лист ВД обладает высокой устойчивостью к расплавленному индию при 250°С. Низкая взаимная растворимость вольфрама и индия обеспечивает минимальное взаимодействие и сохранение целостности вольфрамового листа в данной металлической среде.